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반도체·LCD 연구장비
이온스퍼터코터(Ion Sputter Coater)

** 이온 스퍼터 코터 (Ion Sputter Coater) **
                   

Ion Sputter Coater는 전도성이 없는 시료(Sample) 및 전도성이 약한 시료의 표면에 
플라즈마를 생성하여 금속박막을 형성시키는 장비로 
전자현미경 분석시 필수적으로 거쳐야 하는 전처리 장비.
Target Material 은 골드(Au)와 백금(Pt)을 주로 사용하며 시료 표면에 설정된 두께로 증착(도금)가능.

 




 

Model : G20 

   1. 7인치 터치 디스플레이로 손쉬운 조작

   2. 한번의 Touch 만으로 진공 → Auto Coating → 진공해제

   3. Library 기능으로 자주 사용하는 조건 저장 (최대 10개)

   4. Φ14㎜ 의 Sample Stub 총 7개 동시장착 가능

   5. 1 to 10mA의 저 전압 코팅으로 시료의 손상방지

   6. Compact 한 제품 Size 로 설치공간 최소화




Function
 

 - Current : 1mA 단위 설정 (1 to 10)
 - Times : 1초 단위 설정 (1 to 600)
 - Library : 최대 10개 까지 코팅조건 저장 (신규설정 시 Save)
 - Selective Plasma : 정해진 횟수에 따라서 시간을 분배하여 플라즈마 방출 (최대 50 time, 5초 단위 설정)


작동순서 

1. Start 버튼을 터치하면 Rotary pump 를 통해 자동으로 진공이 시작 됩니다. (진공시간 약 1분 소요)

2. 설정된 진공에 도달이 되면 입력된 코팅두께(sec) 로 Plasma 가 발생이 됩니다.

3. Library 기능으로 자주 사용하는 조건 저장 (최대 10개)

4. 코팅이 완료되면 약 5초 후에 Door 를 open 할 수 있으며 완성된 샘플을 제거할 수 있습니다. 







Specification




 주사 전자 현미경 (SEM) 


 
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*** Plasma Sputter Coater (Model : MNT-JS1600) ***

 



 


 



제품 설명

MNT-JS1600은 금, 백금, 인듐, 팔라듐, 티타늄, 구리, 알루미늄, 코발트 및은 등의 금속 코팅을 만들기 위해 설계된 소형 플라즈마 스퍼터링 코터입니다. 시스템은 75mm 샘플 옵션으로 최대 50mm 직경의 샘플에 적용 할 수 있습니다. 공정을 반복함으로써 더 두꺼운 코팅을 달성 할 수있다. SEM 시료 전처리를위한 전도성 금막 코팅 및 다양한 분야의 장치 프로토 타이핑에 널리 사용됩니다. 플라즈마 스퍼터링 코터는 턴키 솔루션으로, 금 스퍼터링 타겟이 설치된 스퍼터링 헤드 (골드 캐소드), 진공 펌프, 스틸 라이닝이있는 반투명 고무 벨로우즈, KF 25플랜지 및 증발트랩를 포함하여 즉시 사용하기 위해 필요한 모든 액세서리와 함께 배송됩니다.
제품 특징
- 큰 스퍼터링 영역을 갖춘 컴팩트 한 크기와 견고한 디자인.
- 계측기 상태를 표시하고 모니터링하기 위해 샘플 스퍼터링 챔버 진공 게이지 및
   스퍼터링 암페어 미터가 내장되어 있습니다.
금, 백금, 인듐 및 은 등과 같은 다양한 금속 코팅
-  표준 글러브 박스 내에서 사용 가능.
-  75mm 샘플로 맞춤 제작 가능.
Specifications



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 주사 전자 현미경 (SEM) 

 

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